真空镀膜技术PPT

真空镀膜技术是一种在高真空环境下，通过加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的方法。这种技术以真空技术为基础，利...

真空镀膜技术是一种在高真空环境下，通过加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的方法。这种技术以真空技术为基础，利用物理或化学方法，结合电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新工艺。真空镀膜技术的分类真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。这种技术通常用于制备硬质反应膜，利用物质的热蒸发或离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。化学气相沉积（CVD）技术化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。这种技术主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。真空镀膜技术的特点真空镀膜技术与传统的湿式镀膜技术相比，具有以下优点：膜/基结合力好薄膜均匀致密，薄膜厚度可控性好应用的靶材广泛溅射范围宽，可沉积厚膜，可制取成分稳定的合金膜重复性好工艺处理温度可控制在500℃以下，可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能真空镀膜技术的应用领域真空镀膜技术广泛应用于各个领域，包括：硬质涂层用于切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等防护涂层用于飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等光学薄膜领域用于增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等建筑玻璃方面用于阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等太阳能利用领域用于太阳能集热管、太阳能电池等集成电路制造中用于薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等信息显示领域用于液晶屏、等离子屏等信息存储领域用于磁信息存储、磁光信息存储等装饰饰品上的应用用于手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜真空镀膜技术的工艺流程真空镀膜技术的工艺流程主要包括以下步骤：清洗将物体表面的污染物彻底清除，以保证薄膜的质量安装将物体安装到真空镀膜设备中准备进行加工抽真空将真空设备密封，打开真空泵开始抽取室内空气，直到达到所需的真空度加热通过高温电阻丝、加热板或电子束加热等方式进行加热镀膜通过蒸发或溅射的方式进行镀膜冷却镀膜完成后进行冷却，可以是自然冷却或通过外部冷却装置进行总之，真空镀膜技术是一种先进的薄膜制备技术，具有广泛的应用前景和重要的工业价值。随着科学技术的不断发展，真空镀膜技术将在更多领域得到应用和推广。