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目的本流程的目的是为确保在化学气相沉积（CVD）处理过程中，peek垫的表面被打磨得平滑且满足工艺要求，以提高其性能和使用寿命。操作步骤准备阶段首先，需要...

目的本流程的目的是为确保在化学气相沉积（CVD）处理过程中，peek垫的表面被打磨得平滑且满足工艺要求，以提高其性能和使用寿命。操作步骤准备阶段首先，需要准备所需的工具和材料，包括CVD设备、peek垫、砂纸、清洗剂等。确保所有工具和材料都经过检查，符合工艺要求放置peek垫将peek垫放置在CVD设备的处理区域中，确保垫子平整且没有褶皱CVD处理按照设定的工艺参数进行CVD处理。此步骤的目的是在peek垫表面形成一层所需的材料冷却处理完成后，让peek垫自然冷却至室温取下peek垫使用专业工具小心地将peek垫从CVD设备中取下，避免对其造成损伤检查表面观察peek垫的表面，检查是否满足工艺要求。如果表面有缺陷或不均匀，需要进行进一步的加工或处理打磨处理使用砂纸对peek垫的表面进行打磨，以去除表面的毛刺、凸起和不平整的部分。根据需要选择不同粒度的砂纸，以保证打磨后的表面平滑且满足要求清洗打磨完成后，使用清洗剂对peek垫进行清洗，以去除表面的杂质和残留物。清洗后要彻底干燥质量检查对打磨完成的peek垫进行质量检查，确保其满足工艺要求和性能标准包装存储将合格的peek垫进行包装，并存放在干燥、无尘的环境中，以备后续使用注意事项在整个过程中要保持工作区域的清洁和卫生，防止灰尘和其他杂质对peek垫造成污染使用砂纸打磨时要轻柔且均匀避免对peek垫造成过度的磨损或划痕